設備或產品的密封性能合格與不合格是相對允許漏率而言的。不同設備要求的功能不一樣，對氣密性的要求就不一樣，因此其允許漏率也是不一樣的。這個允許漏率一般是由設計

      人員根據設備對氣密性的要求經過周密的考慮和計算而提出來的。允許漏率不僅是有氣密性要求的設備的一項主要設計指標，也是對設備進行檢漏的依據。那麽，如何去計算允許漏率值呢?，下麵就幾種典型情況進行討論。

⑴ 動態真空係統的允許漏率

      所謂動態真空係統，指工作時泵仍然對它進行抽氣的係統，如真空冶煉爐、真空鍍膜機、粒子加速器等。動態真空係統一般是利用抽速較大的泵來獲得和維持真空的。因此，既使係統上存在較大的漏孔仍可以工作，對氣密性的要求相應降低。但是這種係統一旦與泵隔開，真空度會急劇下降。這種係統的允許漏率可以用氣體流量穩定關係來計算。在空載情況下，係統達到動態平衡時單位時間進入係統空間的氣體量必然等於被泵抽走的氣體量。此時的平均壓力就是係統所能達到的極限壓力p0。根據流量穩定關係有Q=Sp0式中Q=氣體流量，包括漏氣和放氣兩部分，即 Q = Q L+QFS=泵對係統的有效抽速。

在設計真空係統時，如果泵對係統的有效抽速S 確定，要求係統達到的極限壓力p0

也已知，那麽係統允許的氣體流量[Q ]為[Q ]≤ Sp0

      一般選取[Q ]的1/10的作為允許漏率[ QL]。那麽，動態係統的允許漏率應為：

[QL ]=1/10[Q ] ≤1/10S.P0

      【例如】一台鍍膜機，對蒸發室的有效抽速S 為100L/s，要求達到的極限壓力p0 為1×10-5Pa，那麽該鍍膜機的允許漏率

[QL]=1/10(S×p0)=1/10×100×1×10-5 =1×10- 4（Pa·L/s）=1×10- 7（ Pa·m3/s）

⑵ 靜態真空係統的允許漏率

      所謂靜態真空係統，即工作時已與泵隔離的真空係統，一般又稱密閉容器或密閉器件，如顯像管、電子管等。

靜態係統的持點是：體積小，要求的極限壓力較低，而且要求在與真空泵隔離後的相當長時間內，其真空度仍能滿足工作要求，即壽命長。因此這種係統對漏氣和放氣的要求都是很高的。假設不考慮封閉係統中加有的消氣劑的抽氣作用，設器件封離時的壓力為P0，保證器件正常工作所需的最高壓力為Pt，器件的內腔容積為V，器件封離後保存和工作的時間為t，那麽器件所允許的總氣載[Q]（漏氣和放氣）應為[Q ] ≤V×(P0-Pt)/t

      取器件的允許漏率[ QL]為[Q ]的1/10，即[Q L] =1/10[Q ]≤(0.1×V×(P0-Pt))/t

【例如】某隻電子管，其內腔容積為0.1L，封離時的壓力p0 為1×10-4Pa，電子管正常工作的最高壓力pt 為1×10-1Pa，要求器件保存和工作時間t 為10000h。那麽，該電子管允許漏率應為

[Q L] ≤0.1×V×(P0-Pt)/t=(0.1×0.1×(1×10-2 -1×10-4))/10000×3600=2.8×10-10Pa.L/S